Dioda elektroluminescencyjna Laser półprzewodnikowy
Wykład VII
Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi
termodynamicznej w półprzewodniku
Funkcja rozkładu Fermiego-Diraca
Dla T = 0 K, f(E) =
1 E < EF 0 E > EF• W T=0 zapełnione są wszystkie stany o energiach poniżej EF
• Dla dowolnej temperatury prawdopodobieństwo zapełnienia stanu o energii EF wynosi 0.5:
f(E) = 0.5 dla E = EF
1 ) 1
(
EE kT e
FE f
Elektrony są fermionami.
Prawdopodobieństwo obsadzenia stanu
fermionem:
Gęstość stanów
Gęstość stanów 𝝆(𝑬) jest to liczba stanów energetycznych na
jednostkę objętości, których energia zawarta jest w przedziale od 𝑬 do 𝑬 + 𝒅𝑬 . W pobliżu krawędzi pasma przewodnictwa:
E 𝝆𝒄(𝐸)
𝝆
𝒄𝑬 𝒅𝑬 = 𝟏 𝟐𝝅
𝟐𝟐𝒎 ħ
𝟐𝟑/𝟐
𝑬 − 𝑬
𝒄𝒅𝑬
Aby obliczyć ilość elektronów w jednostce objętości o energiach od 𝑬 do 𝑬 + 𝒅𝑬 w stanie równowagi w temperaturze 𝑻, gęstość stanów należy pomnożyć przez funkcję Fermiego- Diraca.
Koncentrację elektronów otrzyma się, jeśli doda się (scałkuje) te elementarne
ilości z całego zakresu energii w pasmie:
Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi termodynamicznej w półprzewodniku
𝒏
𝟎= න
𝑬𝒄
∞
𝒇 𝑬 𝝆
𝒄𝑬 𝒅𝑬
𝒑
𝟎= න
−∞
𝑬𝒗
(𝟏 − 𝒇 𝑬 )𝝆
𝒗𝑬 𝒅𝑬
Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi termodynamicznej w półprzewodniku
Koncentracja elektronów w pasmie przewodnictwa:
𝒏
𝟎= න
𝑬𝒄
∞
𝒇 𝑬 𝝆
𝒄𝑬 𝒅𝑬
Gęstość stanów w pobliżu krawędzi pasm:
1 ) 1
(
EE kT e
FE f
Prawdopodobieństwo obsadzenia stanu fermionem:
)
2
(
/ 1
0
N F kT
n
C EFEC2 / 3
2
2
*2
h
kT N
Cm
nkT E
E C
C C
F
e
CN E
f N
n
0 ( )
( )/efektywna gęstość stanów na dnie pasma przewodnictwa
Dla półprzewodnika niezdegenerowanego:
Całka Fermiego
Dla półprzewodnika zdegenerowanego:
𝒏
𝟎= 𝟏 𝟑𝝅
𝟐𝟐𝒎
∗ 𝒏ћ
𝟐𝟑/𝟐
(𝑬
𝑭− 𝑬
𝒄)
𝟑/𝟐Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi
termodynamicznej w półprzewodniku
Rekombinacja spontaniczna
B. Ziętek Optoelektronika
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura Półprzewodnik z prostą przerwą
𝒓𝒔𝒑 ≅ 𝟏
𝝉𝒓 𝒇𝒆(𝝂)𝝆(𝝂)
Prawdopodobieństwo rekombinacji promienistej zależy od:
1. Prawdopodobieństwa odpowiedniego obsadzenia stanów w pasmie przewodnictwa i w pasmie walencyjnym 𝒇𝒆(𝝂) 2. Prawdopodobieństwa przejścia 𝟏
𝝉𝒓
3. Łącznej gęstości stanów elektronowych i dziurowych 𝝆(𝝂)
Poziom Fermiego w półprzewodniku niezdegenerowanym
EC Ef=Ei EV
EC Ei EV
EC Ei EV
samoistny
Ef
Ef
n-typu p-typu
Wpływ domieszkowania na poziom Fermiego E
f:
• n-typu: poziom Fermiego przesuwa się do góry
• p-typu: poziom Fermiego przesuwa się w dół
𝒏 = 𝒏 𝒊𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒇 − 𝑬 𝒊 /𝒌𝑻 𝒑 = 𝒏 𝒊 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒊 − 𝑬 𝒇 /𝒌𝑻 𝒏 𝒊
Wiadomo, że poziom Fermiego (EF) ma znaczenie tylko gdy nie ma nośników nadmiarowych (tj. w stanie równowagi).
Można napisać wyrażenia na stacjonarne koncentracje dla elektronów i dziur, podobnie jak wyrażenia na koncentracje równowagowe, definiując oddzielne kwazi-poziomy Fermiego 𝑬𝒇𝒏 i 𝑬𝒇𝒑 odpowiednio dla elektronów i dziur:
Kwazi-poziomy Fermiego (𝑬𝒇𝒏i 𝑬 𝒇𝒑) są odpowiednikami równowagowego poziomu Fermiego Ef. Kiedy obecne są nośniki nadmiarowe, odchyłki 𝑬𝒇𝒏i 𝑬 𝒇𝒑 od Ef wskazują, na ile koncentracje elektronów i dziur (n i p) różnią się od równowagowych koncentracji (n0 i p0). Odległość między kwazi-poziomami Fermiego (𝑬𝒇𝒏 − 𝑬 𝒇𝒑) jest miarą odchyłki od równowagi (w równowadze 𝑬𝒇𝒏 = 𝑬 𝒇𝒑 = Ef)
Kwazi-poziomy Fermiego
𝒏 = 𝒏 𝒊 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒇𝒏 − 𝑬 𝒊 /𝒌𝑻 𝒑 = 𝒏 𝒊 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒊 − 𝑬 𝒇𝒑 /𝒌𝑻
Kwazi-poziomy Fermiego 𝑬𝒇𝒏 i 𝑬 𝒇𝒑 dla Si z n0 = 1014 cm-3, 𝝉𝒏
= 2 ms i gop = 1013 EHP/cm3 𝝁𝒔 𝒏𝟎 = 𝟏𝟎𝟏𝟒𝒄𝒎−𝟑, 𝒏𝒊 = 𝟏𝟎𝟏𝟎𝒄𝒎−𝟑, 𝒑𝟎 = 𝒏𝒊𝟐
𝒏𝟎 = 𝟏𝟎𝟐𝟎
𝟏𝟎𝟏𝟒 = 𝟏𝟎𝟔𝒄𝒎−𝟑 𝒏 = 𝒏𝟎 + 𝜹𝒏 = 𝒏𝟎 + 𝒈𝒐𝒑𝝉𝒏 =
𝟏𝟎𝟏𝟒𝒄𝒎−𝟑 + 𝟏𝟎𝟏𝟑𝑬𝑯𝑷
𝒄𝒎𝟑𝝁𝒔 ∙ 𝟐𝝁𝒔 =
= 𝟏𝟎𝟏𝟒 𝒄𝒎−𝟑 + 𝟐 ∙ 𝟏𝟎𝟏𝟑𝒄𝒎−𝟑 = 𝟏, 𝟐 ∙ 𝟏𝟎𝟏𝟒𝒄𝒎−𝟑
Przekształcając równanie
Otrzymujemy:
𝑬𝒇𝒏 − 𝑬 𝒊 = 𝟎, 𝟐𝟑𝟑𝒆𝑽
Analogicznie, 𝑬𝒊 − 𝑬 𝒇𝒑 = 𝟎, 𝟏𝟖𝟔𝒆𝑽 otrzymamy z równania:
Przykład
𝒏 = 𝒏 𝒊 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒇𝒏 − 𝑬 𝒊 /𝒌𝑻
𝒑 = 𝜹𝒏 = 𝒏 𝒊 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒊 − 𝑬 𝒇𝒑 /𝒌𝑻
EHP- ilość par elektron-dziura
Dioda elektroluminescencyjna
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura Półprzewodnik z prostą przerwą
𝒓𝒔𝒑 ≅ 𝟏
𝝉𝒓 𝒇𝒆(𝝂)𝝆(𝝂)
Prawdopodobieństwo rekombinacji promienistej zależy od:
1. Prawdopodobieństwa odpowiedniego obsadzenia stanów w pasmie przewodnictwa i w pasmie walencyjnym 𝒇𝒆(𝝂) 2. Prawdopodobieństwa przejścia 𝟏
𝝉𝒓
3. Łącznej gęstości stanów elektronowych i dziurowych 𝝆(𝝂)
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
𝒇𝒆 𝝂 = 𝒇𝒄𝒇𝒗 = 𝒇 𝑬𝟐 [𝟏 − 𝒇 𝑬𝟏 ]
𝒇 𝑬𝟐 = 𝟏
𝒆(𝑬𝟐−𝑬𝒇𝒄)/𝒌𝑻 + 𝟏
Załóżmy, że półprzewodnik jest samoistny.
ad 1.
𝟏 − 𝒇 𝑬𝟏 = 𝟏 − 𝟏 𝒆
𝑬𝟏−𝑬𝒇𝒗
𝒌𝑻 + 𝟏
= 𝒆
𝑬𝟏−𝑬𝒇𝒗 𝒌𝑻
𝒆
𝑬𝟏−𝑬𝒇𝒗 𝒌𝑻 + 𝟏
≈ 𝒆𝒙𝒑(−𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝟏 𝒌𝑻 )
Stąd:
𝒇𝒆 𝝂 ≈ 𝒆𝒙𝒑 −𝑬𝟐 − 𝑬𝒇𝒄
𝒌𝑻 ∙ 𝒆𝒙𝒑 −𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝟏
𝒌𝑻 = 𝒆𝒙𝒑 −𝒉𝝂
𝒌𝑻 𝒆𝒙𝒑 −𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝒇𝒄
𝒌𝑻 =
= 𝒆𝒙𝒑 −𝒉𝝂 − 𝑬𝒈
𝒌𝑻 𝒆𝒙𝒑 𝑬𝒇𝒄 − 𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝒈 𝒌𝑻
𝒌𝑻 ≪ 𝑬𝒈
𝟐 ≈ 𝑬𝟐 − 𝑬𝒇𝒄 ≈ 𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝟏 𝒇 𝑬𝟐 ≈ 𝒆𝒙𝒑(−𝑬𝟐 − 𝑬𝒇𝒄 𝒌𝑻 )
Przy niskim poziomie wzbudzenia, można założyć, że poziom Fermiego leży w połowie przerwy wzbronionej. Wówczas w niskiej temperaturze :
Gęstość stanów w pobliżu krawędzi pasm:
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
3. Łączna gęstość stanów
Zamiast rozważać ruch elektronów i dziur oddzielnie, można opisać przejście elektronów z pasma walencyjnego do pasma przewodnictwa (lub w odwrotną stronę) jako przejście jednej cząstki o masie równej masie zredukowanej 𝒎𝒓:
Łączna gęstość stanów:
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
• Prawdopodobieństwo obsadzenia – czynnik Boltzmanna
~𝒆
−𝒉ν−𝑬𝒈𝒌𝑻• Gęstość stanów ~ 𝒉ν − 𝑬𝒈
Zatem intensywność przejścia:
𝒓
𝒔𝒑~ 𝒉ν − 𝑬
𝒈𝒆
−𝒉ν−𝑬𝒈 𝒌𝑻
Wówczas intensywność przejścia będzie proporcjonalna do iloczynu prawdopodobieństwa obsadzenia przez tę cząstkę stanu o energii E i gęstości
stanów.
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
W stanie równowagi termodynamicznej
𝜏𝑟- czas życia na rekombinację promienistą
𝑫 = 𝟐𝒎𝒓 𝟑/𝟐
𝝅ћ𝟐𝝉𝒓 𝐞𝐱𝐩 𝑬𝒇𝒄 − 𝑬𝒇𝒗 − 𝑬𝒈 𝒌𝑻
FWHM
FWHM – full width at half maximum – szerokość połówkowa
Wydajność kwantowa
Wewnętrzna wydajność kwantowa:
𝜼 𝒊 = 𝒍𝒊𝒄𝒛𝒃𝒂 𝒘𝒚𝒆𝒎𝒊𝒕𝒐𝒘𝒂𝒏𝒚𝒄𝒉 𝒇𝒐𝒕𝒐𝒏ó𝒘/𝒔𝒆𝒌
𝒍𝒊𝒄𝒛𝒃𝒂 𝒆𝒍𝒆𝒌𝒕𝒓𝒐𝒏ó𝒘 𝒘𝒔𝒕𝒓𝒛𝒚𝒌𝒏𝒊ę𝒕𝒚𝒄𝒉 /𝒔𝒆𝒌 = 𝑷𝒊𝒏𝒕/𝒉𝝂 𝑰/𝒆
W powyższym równaniu chodzi o fotony wyemitowane przez obszar aktywny LED.
Jeśli liczba fotonów wyemitowanych do przestrzeni jest mniejsza, to wprowadza się wydajność ekstrakcji:
𝜼 𝒆𝒌𝒔𝒕𝒓 = 𝒍𝒊𝒄𝒛𝒃𝒂 𝒘𝒚𝒆𝒎𝒊𝒕𝒐𝒘𝒂𝒏𝒚𝒄𝒉𝒇𝒐𝒕𝒐𝒏ó𝒘
𝒔𝒆𝒌 𝒅𝒐 𝒑𝒓𝒛𝒆𝒔𝒕𝒓𝒛𝒆𝒏𝒊 𝒍𝒊𝒄𝒛𝒃𝒂 𝒘𝒚𝒆𝒎𝒊𝒕𝒐𝒘𝒂𝒏𝒚𝒄𝒉𝒇𝒐𝒕𝒐𝒏ó𝒘
𝒔𝒆𝒌 𝒑𝒓𝒛𝒆𝒛 𝒐𝒃𝒔𝒛𝒂𝒓 𝒂𝒌𝒕𝒚𝒘𝒏𝒚
= 𝑷/𝒉𝝂 𝑷𝒊𝒏𝒕/𝒉𝝂
Zewnętrzna wydajność kwantowa i generowana moc optyczna:
𝜼 𝒛𝒆𝒘𝒏 = 𝜼 𝒆𝒌𝒔𝒕𝒓𝜼 𝒊 = 𝑷/𝒉𝝂
𝑰/𝒆 𝑷 = 𝜼 𝒛𝒆𝒘𝒏 ∙ 𝑰 ∙ 𝒉𝝂
𝒆
Odpowiedź LED
𝑷 = 𝜼 𝒛𝒆𝒘𝒏 ∙ 𝑰 ∙ 𝒉𝝂 𝒆
𝑹 = 𝑷
𝑰 = 𝜼 𝒛𝒆𝒘𝒏 ∙ 𝒉𝝂
𝒆 [𝑾
𝑨]
Relacja dyspersji E(k) i rekombinacja promienista
Aby mogła nastąpić emisja lub absorpcja światła, muszą zostać spełnione zasady zachowania energii i pędu (w krysztale tj. pseudopęd). Pęd fotonu jest do pominięcia w stosunku do pędu elektronu w cele stałym. Dlatego emisja i absorpcja w półprzewodniku z prostą przerwą wzbronioną są dużo bardziej prawdopodobne niż w przypadku półprzewodnika ze skośną przerwą, gdzie w obydwu procesach musi wziąć udział trzecia cząstka – fonon. Inaczej nie zostanie spełniona zasada zachowania pędu.
𝑬𝟐 − 𝑬𝟏 = 𝒉𝝂
Przerwa prosta:
𝒑𝟐 − 𝒑𝟏 ≅ 𝟎
Przerwa skośna:
𝒑𝟐 − 𝒑𝟏 ≅ 𝒑𝒇𝒐𝒏𝒐𝒏𝒖
𝒑𝒇𝒐𝒕𝒐𝒏𝒖 ≪ 𝒑𝒆𝒍𝒆𝒌𝒕𝒓𝒐𝒏𝒖
Wydajność ekstrakcji
Światło, które opuszcza aktywny obszar jest absorbowane (A):
i odbijane:
Ulega całkowitemu wewnętrznemu odbiciu (promień C). Pole powierzchni wycinka sfery (czaszy kulistej zamykającej stożek kąta bryłowego):
Pole powierzchni sfery:
Konstrukcje LED
LED – diagram pasmowy
Diagram pasmowy LED bez polaryzacji i po
spolaryzowaniu w kierunku przewodzenia. Napięcie
polaryzujące diodę zmniejsza barierę potencjału 𝑽
𝒐i
nośniki większościowe dyfundują do odpowiednich
obszarów złącza, rekombinując w obszarze złącza.
Widmo promieniowania i energie wzbronione
Bandgap - przerwa wzbroniona, lattice constant – stała sieciowa
Dioda GaAs
(1-x)P
xx = 0.4 LED świecą na czerwono, x = 0.65 – na pomarańczowo, x = 0.85 – na żółto i x = 1 – na zielono.
GaAs1-xPx dla składów molowych x<0.42 jest półprzewodnikiem z prostą przerwą wzbronioną. Dlatego prawdopodobieństwo rekombinacji promienistej jest duże. Natomiast dla większych składów – półprzewodnikiem o skośnej przerwie wzbronionej. Stąd czysty GaP nie nadaje się na diody LED. Aby umożliwić rekombinację promienistą w tym krysztale, wprowadza się do niego tzw. domieszkę zlokalizowaną - azot.
E
k
Przerwa prosta Przejście prosta – skośna x=0.42 Przerwa skośna
Poziom N Poziom
N
Widmo LED
GaAsP / GaAs 655nm / czerwone GaP 568nm / żółto-zielone
GaP 700nm / jasno czerowne
GaAsP / Gap 610nm / bursztynowe GaP 555nm / czysta zieleń
GaAsP / GaP 655nm / czerwone o wysokiej wydajności
GaP 568nm / żółto-zielone
GaAlAs / GaAs 660nm / czerwone InGaAlP 574nm / zielone
InGaAlP 574nm/zielone
InGaAlP 620nm / pomarańczowe InGaAlP 595nm / żółte
λ
𝑝= ℎ𝑐
𝐸
𝑔Sposoby otrzymywania białych emiterów LED
przez konwersję promieni UV w luminoforze RGB poprzez mieszanie
trzech barw podstawowych
przez częściową konwersję promieni niebieskich w
luminoforze żółtym
Wydajność świetlna LED
SLD i OLED
OLED
Natężenie światła emitowanego przez OLED zależy od natężenia prądu płynącego od anody do katody.
W wyświetlaczach OLED każdy piksel jest diodą. Barwa emitowanego światła zależy do materiału warstwy organicznego emitera. Ponieważ OLED nie musi być podświetlany, poziom czerni jest lepszy niż w wyświetlaczach LCD.
Porównanie LED i OLED
Wyświetlacze LCD
Budowa LCD
1.komórki, w których zatopiona jest niewielka ilość ciekłego kryształu 2.elektrody będących źródłem pola
elektrycznego działającego bezpośrednio na ciekły kryształ
3.dwie cienkie folie, z których jedna pełni rolę polaryzatora a druga analizatora
4.źródła światła.
Światło wnikające do komórki jest wstępnie polaryzowane pionowo przez filtr polaryzacyjny, przechodzi przez szklaną elektrodę i warstwę ciekłego kryształu. Mikrorowki na elektrodach wymuszają takie uporządkowanie cząsteczek tworzących warstwę ciekłokrystaliczną, aby przy wyłączonej elektrodzie nastąpiło obrócenie polaryzacji światła o 90°. Dzięki temu światło może przejść przez folię pełniącą rolę analizatora światła, która przepuszcza tylko światło spolaryzowane poziomo, odbić się od lustra, przejść ponownie przez analizator, ulec ponownej zmianie polaryzacji o 90° na warstwie ciekłego kryształu i ostatecznie opuścić bez przeszkód wyświetlacz, przez górną folię polaryzacyjną. Po przyłożeniu napięcia do elektrod, generowane przez nie pole elektryczne wymusza taką zmianę uporządkowania cząsteczek w warstwie ciekłego kryształu, że nie obraca ona polaryzacji światła. Powoduje to, że światło nie przechodzi przez analizator, co daje efekt czerni.
W dolnej warstwie wyświetlacza znajdują się źródła światła (1). W pierwszej kolejności światło pada na polaryzator (2), co sprawia, że tylko część światła przechodzi dalej. Następnie światło przechodzi przez przezroczystą elektrodę (3) i trafia na ciekły kryształ (4 i 5). W kolejnym kroku, w zależności od ułożenia molekuł ciekłego kryształu, światło zmienia swoją polaryzację (fala świetlna ulega
“skręceniu” (4)) lub też nie (5). Światło przechodzi teraz przez kolejną przezroczystą elektrodę (6) i trafia na analizator (7) – warstwę, która przepuszcza tylko światło o określonej polaryzacji.
To, czy światło przechodzi przez cały układ, czy nie zależy od tego jak skręcone są cząsteczki ciekłego kryształu, a to z kolei zależy od napięcia pomiędzy elektrodami.
Wyświetlacz jest podzielony na bardzo dużą liczbę pól zwanych pikselami. To właśnie piksele składają się na widoczny na ekranie obraz. Sterowanie jasnością każdego z pikseli pozwala na uzyskanie mozaiki, tworzącej obraz.
Uzyskanie kolorowego obrazu na wyświetlaczu LCD jest bardzo proste. W odpowiedniej warstwie ekranu dodany jest barwny filtr (8), który zmienia kolor przechodzącego światła. W większości wyświetlaczy wykorzystywane są trzy filtry: czerwony, zielony i niebieski (ang. Red, Green, Blue –
RGB). Światło, które przeszło przez filtry miesza się i tworzy różne kolory.
Laser półprzewodnikowy
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura Półprzewodnik z prostą przerwą
𝒓𝒔𝒑 ≅ 𝟏
𝝉𝒓 𝒇𝒆(𝝂)𝝆(𝝂)
Prawdopodobieństwo rekombinacji promienistej zależy od:
1. Prawdopodobieństwa odpowiedniego obsadzenia stanów w pasmie przewodnictwa i w pasmie walencyjnym 𝒇𝒆(𝝂) 2. Prawdopodobieństwa przejścia 𝟏
𝝉𝒓
3. Łącznej gęstości stanów elektronowych i dziurowych 𝝆(𝝂)
Rekombinacja promienista pary elektron-dziura
ad 2. W przybliżeniu, można założyć, że czas życia na rekombinację promienistą
𝝉𝒓 = 𝟏
𝑴 𝟐 ≈ 𝒄𝒐𝒏𝒔𝒕
ad 3. Łączna gęstość stanów
Warunek obsadzeń - absorpcja i emisja
Emisja Absorpcja
Wzmocnienie w półprzewodniku- warunek obsadzeń
Emisja Absorpcja
Współczynnik inwersji Fermiego:
Wzmocnienie, jeśli współczynnik inwersji 𝒇𝒈 ν > 0
𝒇
𝒄𝑬
𝟐= 𝟏/ 𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟐− 𝑬
𝒇𝒄)/𝒌𝑻 + 𝟏 𝒇
𝒗𝑬
𝟏= 𝟏/ 𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟏− 𝑬
𝒇𝒗)/𝒌𝑻 + 𝟏
𝟏
𝒇
𝒄𝑬
𝟐< 𝟏
𝒇
𝒗𝑬
𝟏Wzmocnienie w półprzewodniku - warunek obsadzeń
𝒇
𝒄𝑬
𝟐= 𝟏/ 𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟐− 𝑬
𝒇𝒄)/𝒌𝑻 + 𝟏 𝒇
𝒗𝑬
𝟏= 𝟏/ 𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟏− 𝑬
𝒇𝒗)/𝒌𝑻 + 𝟏
𝟏
𝒇
𝒄𝑬
𝟐< 𝟏 𝒇
𝒗𝑬
𝟏𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟐− 𝑬
𝒇𝒄)/𝒌𝑻 + 𝟏 < 𝒆𝒙𝒑 (𝑬
𝟏− 𝑬
𝒇𝒗)/𝒌𝑻 + 𝟏
𝑬
𝒇𝒄− 𝑬
𝒇𝒗> 𝑬
𝟐− 𝑬
𝟏= 𝒉ν
Z drugiej strony, żaden foton nie może mieć energii mniejszej od energii przerwy wzbronionej Eg. Stąd:
𝑬
𝒈< 𝒉ν < 𝑬
𝒇𝒄− 𝑬
𝒇𝒗Zatem inwersja jest możliwa tylko dla fotonów o energii mniejszej od 𝑬𝒇𝒄 − 𝑬𝒇𝒗.
Tylko fotony o energii zawartej w przedziale pomiędzy 𝑬
𝒈a 𝑬
𝒇𝒄− 𝑬
𝒇𝒗są wzmacniane.
Linie ciągłe – 0𝐾,
przerywane – 𝑇 = 300𝐾
Inwersja jest możliwa tylko dla fotonów o energii mniejszej od 𝑬𝒇𝒄 − 𝑬𝒇𝒗:
𝒇
𝒈ν > 𝟎
dla𝒉ν < 𝑬
𝒇𝒄− 𝑬
𝒇𝒗Wzmocnienie w półprzewodniku
Wzmocnienie:
Półprzewodnik niezdegenerowany
Półprzewodnik zdegenerowany
typu n
Poziom Fermiego znajduje się w obszarze przerwy wzbronionej
Poziom Fermiego znajduje się w obszarze pasma przewodnictwa
Tylko fotony o energii zawartej w przedziale pomiędzy 𝑬𝒈 a 𝑬𝒇𝒄 − 𝑬𝒇𝒗 są wzmacniane.
Laser homozłączowy
B. Ziętek Optoelektronika
Laser półprzewodnikowy
a) dioda bez polaryzacji
b) dioda spolaryzowana napięciem równym energii wzbronionej półprzewodnika.
Warunek wystąpienia akcji laserowej:
• półprzewodniki zdegenerowane
• napięcie polaryzujące równe ~ przerwie wzbronionej (pompowanie)
𝑬
𝒇𝒄− 𝑬
𝒇𝒗> 𝑬
𝒈Właściwości prom. laserowego
B. Ziętek Optoelektronika
Złącze p-n w optoelektronice
fotodioda LED laser
Laser heterozłączowy
B. Ziętek Optoelektronika
Źródło ASE
Realizacja inwersji obsadzeń we włóknie światłowodowym domieszkowanym jonami ziem rzadkich (RE) jest łatwa, ponieważ
„uwięzienie” fotonów we włóknie (zwykle <10 mm) a więc i intensywność pompowania w rdzeniu jest b. duża. Dlatego emisja wymuszona we włóknie domieszkowanym jonami ziem rzadkich jest bardzo wydajna.
Stąd włókna są często używane jako źródła ASE, lasery światłowodowe i światłowodowe wzmacniacze optyczne.
Źródło ASE
Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation (LASER)
• Markery nowotworowe – fluorescencja po oświetleniu światłem niebieskim komórek rakowych różni się od fluorescencji zdrowych komórek.
• Detekcja broni chemicznej i biologicznej - po oświetleniu światłem niebieskim pierwiastki znajdujące się w broni chemicznej i biologicznej fluoryzują.
• Lepsze drukarki – drukarki laserowe na niebieskim laserze mają dwukrotnie większą rozdzielczość
• Medycyna/stomatologia – skalpele, rozdrabniacze złogów i udrażnianie arterii, renowacja uszkodzonej rogówki i naczyń krwionośnych w oku, utwardzanie wypełnień w zębach.
• Zastos. militarne – naprowadzanie na cel
• Nauka – Charakteryzacja materiałów i metrologia
Lasery-zastosowanie
• Większość współczesnych dysków (CD i DVD) jest wykonywana przy użyciu laserów na bazie GaAs, które emitują światło w
czerwonym lub podczerwonym zakresie widma promieniowania
• CD ≈ 700MB używa lasera na 780nm
• DVD o pojemności 4.7GB - lasera na ≈ 640nm.
• Niebieskie lasery o długości fali ≈ 405 nm: Blu-ray i Advanced Optical Disc mają pojemność 23GB i 36GB.
• Krótsze fale umożliwiają zapis olbrzymiej ilości danych