Wykład IV
Półprzewodniki samoistne i domieszkowe
Półprzewodniki (Si, Ge, GaAs)
Talent 09-01-2016
Konfiguracja elektronowa Si : 1s2 2s2 2p6 3s2 3p2 = [Ne] 3s2 3p2
4 elektrony walencyjne
Półprzewodnik samoistny
Półprzewodnik samoistny
2
0 0 i
n p n
kT E
s s
e g /2
0
ln()
1/T
©2003 Brooks/Cole, a division of Thomson Learning, Inc. Thomson Learning™is a trademark used herein under license.
𝝈 = 𝒆𝒏𝝁
Transport elektronów w krysztale
𝝁 = 𝒗 𝑬
a) Elektron w perfekcyjnym krysztale
b) Elektron w krysztale w skończonej temp.
c) Elektron w krysztale zdefektowanym
Przewodność właściwa Ruchliwość Natężenie pola elektrycznego
Prędkość elektronu
Ruchliwość
Elektrony w sieci ulegają rozproszeniu na skutek:
• drgań sieci (fonony)
• defekty
• inne elektrony
Ruchliwość w półprzewodnikach
Rozpraszanie na domieszkach
Rozpraszanie na fononach
1 1
1
I
Ruchliwość
elektronów
jest większa
od ruchliwości
dziur
Półprzewodnik samoistny
Przewodność:
Jeśli ruchliwość nie zmienia się istotnie wraz ze zmianą temperatury to
/ 2 0
Eg kT
i i
e
ln()
1/T
en
i
( ) ~ T n T
i( )
1/T ln()
/ 2 0
Ed kT
d d
e
Półprzewodnik typu n
Ge Ge Ge
Ge
Ge
Ge Ge
Ge As
elektrony walencyjne
elektron nadmiarowy
N-typu -donory
Półprzewodnik typu p
1/T ln()
/ 2 0
Ea kT
d d
e
P-typu akceptory
Zależność przewodności od temperatury- półprzewodnik domieszkowy
/ 2 0
Eg kT
i i
e
( ) / 2 0
Ed a kT
d d
e
Przypomnienie z wykładu III
Jak liczy się koncentrację elektronów w metalu?
• Najpierw wprowadza się pojęcie gęstości stanów, tzn.
liczby stanów na jednostkę objętości, zawartych w pewnym przedziale energii
• Potem gęstość stanów mnoży się przez
prawdopodobieństwo, że elektrony obsadzą te stany, czyli przez funkcję Fermiego-Diraca
• Potem sumuje się (całkuje) ten iloczyn po wszystkich energiach dostępnych w pasmie przewodnictwa
Jak to sobie przypomnimy, to obliczymy koncentrację elektronów w półprzewodniku typu n (p)…
Gęstość stanów Gęstość stanów obsadzonych
elektronami Funkcja rozkładu
Fermiego-Diraca
3/ 2
3/ 2 3
0
( ) ( ) 16 2
3
EF
F
n f E N E dE m E
h
N(E)
N(E)~E1/2
Koncentracja elektronów w metalu
pole pod wykresem c)
Funkcja rozkładu Fermiego-Diraca
Dla T = 0 K, f(E) =
1 E < EF 0 E > EF• W T=0 zapełnione są wszystkie stany o energiach poniżej EF
• Dla dowolnej temperatury prawdopodobieństwo zapełnienia stanu o energii EF wynosi 0.5:
f(E) = 0.5 dla E = EF
1 ) 1
(
EE kT e
FE f
Elektrony są fermionami.
Prawdopodobieństwo obsadzenia stanu fermionem:
Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi termodynamicznej w półprzewodniku
Koncentracja elektronów w pasmie przewodnictwa:
0
( ) ( )
EC
n f E N E dE
( ) /
( ) /
( ) 1 (300 )
1
C F
C F
E E kT
C E E kT
f E e K
e
EF
T=300K
półprzewodnik samoistny
EC
• 𝒌𝑻 (𝒘 𝟑𝟎𝟎𝑲) = 𝟎. 𝟎𝟐𝟓𝒆𝑽
→ 𝑬𝑪 −𝑬𝑭 > 𝒌𝑻
• 𝑬𝑭 znajduje się w połowie przerwy wzbronionej
(w Si tj. 0.55eV)
Koncentracja elektronów w pasmie przewodnictwa
• 𝑵(𝑬)~ 𝑬
• 𝒇(𝑬)𝑵(𝑬) maleje istotnie dla 𝑬 > 𝑬𝑪, więc mało elektronów zajmuje stany powyżej dna pasma przewodnictwa
• wprowadza się efektywną gęstość stanów 𝑵𝑪 : wszystkie stany zastępuje się stanami na dnie pasma przewodnictwa
• koncentracja elektronów w pasmie przewodnictwa = (efektywna gęstość stanów NC) x (funkcja Fermiego) :
kT E
E C
C C
F
e
CN E
f N
n
0 ( )
( )/2 / 3
2
2
*2
h
kT
N
Cm
nKoncentracja dziur w paśmie walencyjnym
kT E
E V
V V
V
e
FN E
f N
p
0 [ 1 ( )]
( )/2 / 3
2
2 *
2
h
kT NV mp
𝒏
𝟎= 𝒑
𝟎= 𝒏
𝒊Koncentracja równowagowa elektronów w
pasmie przewodnictwa jest równa koncentracji
równowagowej dziur w paśmie walencyjnym
2
0 0 i
n p n
W półprzewodniku samoistnym koncentracja dziur jest równa koncentracji elektronów, więc
Równanie prawdziwe dla wszystkich półprzewodników:
𝒏
𝟎= 𝒑
𝟎= 𝒏
𝒊Koncentracja elektronów i dziur w stanie równowagi termodynamicznej
kT E
V C
i
e
gN N
n / 2
Koncentracja równowagowa nośników w półprzewodniku domieszkowym
/ 0
/ 0
F i
i F
E E kT i
E E kT i
n n e p n e
EC EF=Ei
EV
EC Ei EV
EC Ei
EV
samoistny
EF
EF
n-typu p-typu
qFn
qFp
i F
F
E E
q
Wpływ domieszkowania na poziom Fermiego EF
n-typu: poziom Fermiego przesuwa się do góry
p-typu: poziom Fermiego przesuwa się w dół
Półprzewodnik w polu elektrycznym
( ) ( ) ( )
( )
p
p
F dE
dx
e x e dV
dx x dV
dx
x const c V cx
E cex
Gęstość prądu unoszenia
x n
x
qn
J
x x
p n
x p x
n
x
qn qp q n p
J ( )
Całkowity prąd unoszenia elektronowy i dziurowy:
x
J
x
Prąd unoszenia:
wynika z obecności pola elektrycznego
Gęstość prądu dyfuzyjnego
dx x qD dn
dx x D dn
q dyf
J
n n( )
n( )
) (
)
(
dx x qD dp
dx x D dp
q dyf
J p p ( ) p ( )
) (
)
(
Prąd dyfuzyjny:
wynika z gradientu koncentracji
nośników
Całkowity prąd w obecności pola elektrycznego
Całkowity prąd jest sumą prądu dyfuzyjnego (elektronowego i dziurowego) i prądu unoszenia (elektronowego i
dziurowego) : J(x) = Jn(x) + Jp(x)
dx x qD dn
x x
n q
x
J
n n n( )
) ( ) ( )
(
dx x qD dp
x x
p q
x
J
p p p( )
) ( ) ( )
(
Złącze p-n
Tworzy się złącze p-n Złącze po utworzeniu
Złącze p-n
0 dx
dE
FW stanie równowagi gradient poziomu Fermiego jest równy
zeru!
Tworzenie się złącza p-n - diagram pasmowy
złącza
Diagram pasmowy złącza p-n w stanie równowagi termodynamicznej
EC
EV EC
EV
p- typ n- typ
Hole s
EC
EV EC
EV
p- type n- type
EC
EV EC
EV EF
P- typ N -typ
elektrony
dziury qVbi
Ind
Ipd
Inu
Vbi – potencjał wbudowany
Ind (Ipd ) – prąd dyfuzyjny elektronowy (dziurowy) Inu (Ipu) – prąd unoszenia elektronowy (dziurowy)
Ipu
+ +
+ ++
-
- -
- -
A
Złącze p-n
dioda półprzewodnikowa
Charakterystyka I-V - nieliniowa
V I
Polaryzacja w kier.
przewodzenia
Polaryzacja zaporowa
p n
+ +
+ +
-
- - - -
+
+ +
- - -
AA
++++
- - - - -
+
-
+