www.ptcer.pl/mccm
1. Wstęp
Obecnie zdecydowana większość szyb architektonicz-nych i komunikacyjarchitektonicz-nych poddawana jest procesom inżynierii powierzchni mającym na celu modyfi kację ich właściwości optycznych i termicznych. Zasadniczą rolę we wszystkich tych procesach technologicznych odgrywa stan powierzchni szkła. Powierzchnia szkła istotnie różni się od jego wnętrza, tak pod względem struktury jak i składu chemicznego. Przyj-muje się, że grubość warstwy zmienionej mieści się w grani-cach 1-10 nm w zależności od rodzaju szkła. Warstwa ta jest rezultatem oddziaływania powierzchni z otoczeniem. Głów-ne znaczenie ma obecność pary wodGłów-nej w powietrzu. W wy-niku reakcji ze składnikami szkła tworzy się cienka warstwa uwodnionych krzemianów sodu i wapnia, w przypadku szkieł sodowo-wapniowych [1, 2]. Pewną rolę odgrywa również CO2, wchodząc w reakcje z produktami hydrolizy i tworząc
związki węglanowe [2]. Zwłaszcza łatwo tworzą się węgla-ny wapnia. Dłużej przechowywane szkło adsorbuje również cząstki pyłu i zanieczyszczenia organiczne o właściwościach hydrofobowych. Zanieczyszczenia te powodują wzrost kąta zwilżania powierzchni przez wodę i są główną przyczyną braku przyczepności powłok nakładanych technikami fi zycz-nymi (PVD) [3]. Istotnym parametrem użytkowym powłoki jest adhezja do podłoża. Oddziaływanie podłoża z powłoką odbywa się w kilku etapach: zwilżanie powierzchni
materia-łem warstwy, adsorpcja składników na skutek oddziaływań fi zycznych, elektrochemicznych i reakcji chemicznych, in-terdyfuzja składników warstwy i podłoża z wytworzeniem wiązań chemicznych [4]. Procesy te są ściśle związane z właściwościami powierzchni, a uzyskanie wysokiej adhezji możliwe jest przy braku zanieczyszczeń oraz przy wysokiej reaktywności powierzchni.
Przygotowanie powierzchni przed nałożeniem powłoki polega więc na usunięciu zanieczyszczeń stałych (cząstek kurzu) i zanieczyszczeń organicznych. W tym celu najczę-ściej stosuje się obróbkę w rozpuszczalnikach organicznych i nieorganicznych wspomaganą ultradźwiękami, promienio-waniem UV czy ozonem [3, 5]. Wadą takiej metody przy-gotowania powierzchni jest wysoki koszt rozpuszczalników i tworzenie dużych ilości toksycznych odpadów. Alternatywą jest obróbka powierzchni w plazmie. Jest to metoda skutecz-nie usuwająca zaskutecz-nieczyszczenia i skutecz-nie kreująca szkodliwych odpadów. Ponadto obróbka plazmowa zwiększa reaktyw-ność obrabianej powierzchni, co istotnie poprawia adhezję. Dotychczas stosowane metody wytwarzania plazmy w gazie rozrzedzonym wymagały kosztownej aparatury próżniowej i skomplikowanych układów zasilania. Wysoki koszt aparatu-ry ograniczał stosowanie tej metody w zasadzie do produkcji elementów optycznych.
Rozwój technik plazmowych bazujących na plazmie wy-twarzanej przy ciśnieniu atmosferycznym daje możliwość
MAREK NOCUŃ
1*, MAGDALENA SKOWRON
2, MARCIN ŚRODA
1, JERZY JEDLIŃSKI
1, MAŁGORZATA CIECIŃSKA
11AGH Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, KTSiPA, al. A. Mickiewicza 30, 30-059
Kraków
2Instytut Ceramiki i Materiałów Budowlanych, ul. Cementowa 8, 31-983 Kraków
*e-mail: nocun@agh.edu.pl
Wpływ wyładowania koronowego na właściwości
powierzchni szkła
Streszczenie
Obróbka powierzchni szkła w plazmie niskotemperaturowej nabiera coraz większego znaczenia ze względu na dobre wyniki i niski koszt aparatury. W pracy przedstawiono wstępne wyniki badań nad wpływem plazmy niskotemperaturowej wytwarzanej w procesie wyła-dowania koronowego na własności fi zyczne i skład chemiczny powierzchni szkła. Obróbka szkła w plazmie nierównowagowej prowadzi do obniżenia kąta zwilżania z 37º dla szkła nie poddanego obróbce do 5,5º po kilkunastu sekundowej obróbce. Badania XPS wykazały wzrost stężenia sodu i grup OH na powierzchni poddanej działaniu plazmy, a także wzrost aktywności powierzchni.
Słowa kluczowe: szkło, powierzchnia, plazma, wyładowanie koronowe
THE INFLUENCE OF CORONA DISCHARGE ON PROPERTIES OF GLASS SURFACES
Surface treatment of glass in the low temperature plasma is becoming increasingly important due to its good performance and low cost of the equipment. The paper presents preliminary results of research on effects of low temperature plasma generated in the process of corona discharge on physical properties and chemical composition of the glass surface. Treatment of the glass in the plasma led to the reduction in an equilibrium contact angle of 37º for the untreated glass to 5.5º after a few seconds of treatment. XPS analysis showed an increased concentration of sodium and OH groups on the plasma treated surface and an increase in surface activity.
wprowadzenia obróbki plazmowej na szerszą skalę ponie-waż nie wymaga stosowania drogich urządzeń, a zużycie energii elektrycznej jest również niskie. Plazma jest stanem materii, w którym duża część atomów występuje w stanie zjonizowanym i istnieje równowaga pomiędzy jonami dodat-nimi i ujemnymi (elektronami). Chociaż plazma występuje w warunkach naturalnych (zorza polarna, wyładowania at-mosferyczne, korona słoneczna) to dopiero ostatnio zaczęto wykorzystywać plazmę wytwarzaną przy atmosferycznych ciśnieniach gazu do celów technologicznych takich jak ob-róbka powierzchni [6, 7], procesy syntezy polimerów [8-10], zastosowania biologiczne [11, 12] i medyczne [13, 14]. Wyróżnia się plazmę równowagową termiczną, cechującą się wysoką temperaturą jonów i elektronów rzędu kilku ty-sięcy stopni Kelvina, i plazmę nierównowagową o niskiej temperaturze, cechującą się mniejszym stężeniem jonów dodatnich i elektronów. Plazma niskotemperaturowa nie po-woduje wzrostu temperatury obrabianego materiału jest więc szczególnie odpowiednia do zastosowań biologicznych, me-dycznych [15]. Okazuje się, że energia plazmy niskotempe-raturowej jest wystarczająca do dekontaminacji powierzchni z zanieczyszczeń organicznych i może być stosowana do wstępnej obróbki powierzchni w celu jej oczyszczenia i ak-tywizacji. Dodatkową zaletą tej metody jest niski koszt apa-ratury niezbędnej do jej wytworzenia.
Obecnie stosuje się trzy główne techniki wytwarzania nierównowagowej plazmy niskotemperaturowej. Wszystkie one opierają się na wykorzystaniu wysokich napięć do wzbu-dzenia i jonizacji gazu:
– palniki plazmowe zasilane wysokim napięciem o czę-stotliwości radiowej [16],
– wyładowanie koronowe (corona discharges) [17], – wyładowanie z udziałem bariery dielektrycznej (dielec-tric barrier discharges) [18],
– wyładowanie w przemieszczającym się łuku (gliding arc discharges).
Do dekontaminacji powierzchni szkła mogą być stosowa-ne pierwsze trzy techniki. W zależności od potrzeb gazem roboczym może być powietrze, gazy obojętne, tlen lub ich kombinacje. Wskutek wyładowania w gazie zachodzi szereg reakcji chemicznych i zjawisk fi zycznych np. generowanie promieniowania UV. W zależności od składu gazu robo-czego i jego ciśnienia, a także parametrów elektrycznych (wartość napięcia i częstotliwości) przebieg reakcji i rodzaj otrzymywanych cząstek może być różny. Zidentyfi kowano ok. 61 różnorodnych reakcji, zachodzących w plazmie wy-twarzanej w powietrzu [19] przy czym dominują następujące reakcje [20]: e + O2 → 2O + e (1) O + O2 → O3 (2) O3 + H2O → O2 + H2O2 (3) H2O2 → 2OH· (4) e + H2O → H· + OH· + e (5) e + N2 → N· + N· + e (6) e + N2 → N2· + e (7) e + NO → N· + O· + e (8) 2H2O → H2O2 + H2 (9)
Badania oddziaływania plazmy niskotemperaturowej, wy-twarzanej w układzie z barierą dielektryczną, z powierzch-nią szkła wykazały, że już po 5 sekundach oddziaływania kąt zwilżania obniżył się z 33º do ok. 5° [21]. Właściwości hydrofi lowe powierzchni ulegały obniżeniu z czasem prze-chowywania, przy czym po 100 h kąt zwilżania wynosił jeszcze 27º, co świadczy o dużej stabilności parametrów powierzchni poddanej obróbce w plazmie atmosferycznej. Analiza wpływu metod obróbki powierzchni szkła na przy-czepność warstw chromu, nakładanych techniką przez od-parowanie w próżni, wykazała, że najlepsze rezultaty uzy-skuje się w wyniku obróbki w plazmie z udziałem O2 [22].
Oddziaływanie plazmy niskotemperaturowej z powierzchnią szkła jest ciągle na wstępnym etapie poznawania, ale za-interesowanie tą techniką inżynierii powierzchni jest coraz większe w przemyśle szkła płaskiego.
Celem badań było sprawdzenie wpływu plazmy wytwa-rzanej w procesie wyładowania koronowego na właściwości fi zyczne i skład chemiczny powierzchni szkła sodowo-wap-niowego.
2. Metodyka badawcza
Wpływ wyładowania koronowego na właściwości po-wierzchni szkła badano w układzie pokazanym na Rys. 1. W badaniach zastosowano typowe szkło fl oat o grubości 2 mm. Wyładowanie koronowe wytworzono między elektro-dami zasilanymi napięciem przemiennym o częstotliwości 30 kHz i napięciu 6 kV. Elektroda wyładowcza wykonana była z drutu miedzianego o średnicy 0,5 mm, a odległość elektrod od powierzchni szkła była równa 1 mm. Powierzchnia od strony elektrody wyładowczej nie zawierała cyny. Próbka szkła przesuwała się pomiędzy elektrodami z prędkością 5 cm/min. Przygotowanie próbki przed pomiarem polegało na myciu w wodzie destylowanej z detergentem w płuczce ultradźwiękowej, a po wysuszeniu w acetonie.
Próbka szkła Glass sheet
Elektroda wyładowcza
Discharge electrode Przeciwelektroda
Generator wysokiego napiêcia HV UNIT
Counter electrode
Rys. 1. Schemat układu do modyfi kacji powierzchni szkła plazmą niskotemperaturową generowaną podczas wyładowania ko-ronowego.
Fig. 1. Schematic drowing of the equipment used to modify the surface of glass by low temperature plasma generated by a corona discharge.
283,5 eV dla próbki wyjściowej. Obecność jego związana jest z adsorpcją związków fl uorowęglanowych obecnych w oleju pompy dyfuzyjnej. Istotny wzrost intensywności tego pasma świadczy o większej skłonności powierzchni szkła do adsorp-cji. Może to wynikać ze zwiększenia rozwinięcia powierzch-ni szkła lub wzrostu jej aktywności na skutek oddziaływapowierzch-nia z plazmą.
Wpływ obróbki szkła w plazmie niskotemperaturowej wy-twarzanej w procesie wyładowania koronowego na skład chemiczny powierzchni widać szczególnie wyraźnie na pod-stawie analizy ilościowej, której wyniki zamieszczono w Ta-beli 2. Obróbka w plazmie prowadzi do istotnego obniżenia zawartości węgla na powierzchni – spadek o ok. 4 punkty procentowe. Należy przyjąć, że jest to węgiel pochodzący od zanieczyszczeń powierzchni szkła związkami organicz-nymi, które nie uległy rozpuszczeniu podczas obróbki próbki w acetonie, a także związki węglanowe, które uległy utlenie-niu do CO2. Widoczny w analizie węgiel w ilości ok. 11% jest
tzw. węglem „aparaturowym” pochodzącym ze strumienia wstecznego par olejów pompy dyfuzyjnej stosowanej w tej aparaturze. Zawartość tlenu uległa zwiększeniu o ponad 3%, natomiast zawartość krzemu i wapnia nieznacznie spadła. Na uwagę zasługuje wzrost zawartości sodu na powierzchni o ok. 2%. Wzrost zawartości sodu może wynikać z faktu, że w wyniku oddziaływania z plazmą i jej składnikami, a głównie ozonem i chemicznie aktywnymi grupami OH, utlenione zo-stały do CO2 związki organiczne i węglany związane głównie
z sodem, który jest najbardziej aktywnym chemicznie pier-wiastkiem na powierzchni szkła. Innym wytłumaczeniem może być proces reorganizacji powierzchni, polegający na dyfuzji sodu do powierzchni pod wpływem pola elektrycz-nego. Taką interpretację popierają badania morfologii po-wierzchni za pomocą mikroskopu sił atomowych [21]. Ba-dania te wykazały istotny wzrost chropowatości powierzchni szkła poddanej działaniu pola elektrycznego o wysokim napięciu. W obrazie mikroskopowym widoczne są domeny wyraźnie wystające ponad powierzchnię szkła, których nie obserwuje się na próbce wyjściowej. Najprawdopodobniej oba wspomniane wyżej procesy mają miejsce, co prowa-dzi do obserwowanego wzrostu zawartości sodu. Aktywny sód z powierzchni reaguje z grupami OH pochodzącymi z plazmy, dając związki o dużej hydrofi lowości. Tłumaczy to istotny spadek kąta zwilżania, a więc wzrost hydrofi lowości powierzchni po obróbce w plazmie.
3.3. Badania elipsometryczne
W celu potwierdzenia faktu, że obserwowane w XPS zmiany składu powierzchni prowadzą do zmiany właściwości powierzchni oraz wyznaczenia grubości zmienionej warstwy zastosowano elipsometrię spektroskopową. Jest to metoda bardzo czuła i charakteryzująca się wysoką precyzją określe-nia grubości powłoki, wynoszącą poniżej angstrema [30, 31]. Na Rys. 3 porównano współczynniki załamania światła powierzchni szkła przed i po obróbce.
Wyniki analizy elipsometrycznej wykazały obecność war-stwy o grubości 9,07 nm, której współczynnik załamania jest wyższy od współczynnika załamania szkła bazowego. Współczynnik załamania światła szkła wyjściowego jest Pomiary kąta zwilżania wykonano za pomocą
goniome-tru DSA 10Mk2. Jako ciecz pomiarową zastosowano wodę podwójnie destylowaną. Objętość kropli wynosiła 0,2 μl, a kąt zwilżania obliczono jako średnią z 5 pomiarów.
Badania elipsometryczne przeprowadzono na elipsome-trze spektroskopowym PhE 102 fi rmy Angstrom Advanced Inc. Grubość warstwy wyznaczono w oparciu o model Cau-chego [23, 24].
Analiza składu chemicznego powierzchni szkła została przeprowadzona za pomocą techniki spektroskopii foto-elektronowej (XPS) na spektrofotometrze VSW. Źródłem promieniowania rentgenowskiego była lampa magnezowa Mg Kα o mocy 200 W. Widma kalibrowane były na energię wiązania węgla C1s, którą przyjęto równą 284.6 eV [25-27]. Analizę matematyczną widm przeprowadzono w oparciu o program Raymunda W.M. Kwok, The Chinese University of Hong Kong. Analizę ilościową przeprowadzono w oparciu o współczynniki czułości publikowane w literaturze [27].
3. Wyniki badań
3.1. Kąt zwilżania
Wpływ oddziaływania plazmy niskotemperaturowej na powierzchnię szkła najczęściej analizuje się poprzez po-miar kąta zwilżania [28, 29]. Rys. 2 przedstawia porówna-nie kształtu kropli wody destylowanej na powierzchni szkła przed i po obróbce w plazmie. Kąt zwilżania wody podwójnie destylowanej na szkle wyjściowym wynosił 37° natomiast po obróbce w plazmie spada do 5,5°.
3.2. Spektroskopia fotoelektronów
Porównanie szczegółowych widm XPS węgla, tlenu i sodu, uzyskanych dla próbki wyjściowej i próbki podda-nej obróbce w plazmie, przedstawiono w Tabeli 1. Zakres energii wiązania węgla niesie ograniczone informacje, po-nieważ organiczne zanieczyszczenia powierzchni zostały zamaskowane tzw. węglem aparaturowym pochodzącym z pomp dyfuzyjnych. Niemniej jednak różnice w widmach węgla świadczą o zmianie właściwości powierzchni.
W próbce wyjściowej na widmie C1s widoczny jest pik o energii wiązania 287,8 eV, który przypisuje się wiązaniom podwójnym węgla z tlenem C=O. Natomiast w próbce pod-danej działaniu plazmy widoczny jest pik o energii wiązania 288,6 eV, który świadczy o obecności grup karboksylowych. Grupy te powstały w wyniku oddziaływania węgla aparaturo-wego z grupami OH znajdującymi się na powierzchni szkła. Istotnie uległa zmianie intensywność piku o energii wiązania
a) b)
Rys. 2. Obraz kropli na szkle przed obróbką w plazmie (a) i po obróbce (b).
Fig. 2. An image of a water drop on the glass before (a) and after (b) the plasma treatment.
Tabela 1. Porównanie widm XPS próbki wyjściowej i poddanej obróbce w plazmie.
Table 1. Comparison between XPS spectra of the glass sample before and after the plasma treatment.
Próbka wyjściowa Próbka po obróbce w plazmie
C 1s C 1s
O 1s O 1s
Na 1s Na 1s
Tabela 2. Analiza ilościowa XPS zawartości pierwiastków na powierzchni szkła przed i po obróbce w plazmie.
Table 2. XPS quantitative analysis of the content of elements in the glass surface before and after the plasma treatment.
Pierwiastek Szkło wyjściowe [% at.] Szkło po obróbce w plazmie [% at.]
C 15,16 11,17
O 65,41 68,75
Si 12,63 11,31
Ca 3,82 3,60
równy 1,523 dla 550 nm, a zmienionej warstwy 1,553 dla tej samej długości fali.
4. Wnioski
Plazma niskotemperaturowa wytwarzana w procesie wy-ładowania koronowego usuwa skutecznie zanieczyszcze-nia organiczne z powierzchni szkła. Ponadto obserwuje się wzrost aktywności chemicznej. Analiza składu powierzch-niowego wykazała wzrost zawartości sodu i grup OH na po-wierzchni poddanej działaniu plazmy. Metoda oczyszczania i aktywacji powierzchni szkła przy zastosowaniu plazmy ni-skotemperaturowej jest bardzo obiecująca, gdyż daje dobre wyniki przy jednocześnie niskich kosztach aparaturowych i eksploatacyjnych.
Podziękowania
Praca fi nansowana z działalności statutowej nr 11.11.160.365/15 w roku 2015.
The research was fi nanced by the National Ministry of Higher Education under a grant no. 11.11.160.365/15.
Literatura
[1] Zięba, B. (red.): Technologia szkła, Arkady, Warszawa 1987. [2] Holland, L.: The Properties of Glass Surfaces, Chapman and
Hall, London 1966.
[3] Wang, Y. Z., Awadelkarim, O. O.: The Effects of Glass Sub-strate’s Surface-Treatment on the Characteristics of N-Chan-nel Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors, J. Electronic
Mater., 27, (1998), 77-80.
[4] Adamson, A. W.: Physical Chemistry of Surfaces, J. Wiley
and Sons Inc., N.J. 1990.
[5] Xianhua, C., Tao, B., Ju, W., Liang, W.: Characterization and Tribological Investigation of Self-assembled Lanthanum-based Thin Films on Glass Substrates, Wear, 260, (2006), 745-750.
[6] Chen, F. F.: Industrial applications of low-temperature plasma physics, Phys. Plasmas, 2, (1995), 21642175.
[7] Leterrier, Y.: Durability of nanosized oxygen-barrier coatings on polymers, Prog. Mater. Sci., 48, (2003), 1-55,
[8] Denes, F. S., Manolache, S.: Macromolecular plasma-chem-istry: An emerging fi eld of polymer science, Prog. Polym. Sci., 29, 8, (2004), 815–885.
[9] Egitto, F. D., Matienzo, L. J.: Plasma Modifi cation of Poly-mer Surfaces for Adhesion Improvement, IBM Journal of
Re-search and Development, 6, (1994), 423-427.
[10] Tamirisa, P. A., Liddell, K. C., Pedrow, P. D., Osman, M.: Pulsed plasma-polymerized aniline thin fi lms, J. Appl. Polym.
Sci., 93, (2004). 1317-1325.
[11] Fernández-Gutierrez, S. A., Pedrow, P. D., Pitts, M. J., Pow-ers, J.: Cold Atmospheric-Pressure Plasmas Applied to Ac-tive Packaging of Apples, IEEE Transactions On Plasma
Sci-ence, 38, (2010), 957-965.
[12] Perni, S., Liu, D. W., Shama, G., Kong, M. G.: Cold atmos-pheric plasma disinfection of cut fruit surfaces contaminated with migrating microorganisms, J. Food Prot., 71, (2008), 1619-1625.
[13] Kong, M. G., Kroesen, G., Morfi ll, G., Nosenko, T., Shimizu, T., van Dijk, J., Zimmerman, J. L.: Plasma in medicine: An in-troductory review, New J. Phys., 11, (2009), 115012-115015. [14] Von Woedtke, Th., Metelmann, H.-R., Weltmann, K. D.: Clini-cal plasma medicine: State and perspectives of in vivo ap-plication of sold atmospheric plasma, Contrib. Plasma Phys., 54, (2014), 104-117.
[15] Graves, D. B.: Low temperature plasma biomedicine: A tuto-rial review, Physics of Plasmas, 21, (2014), 080901-080912. [16] Conrads, H., Schmidt, M.: Plasma generation and plasma
sources, Plasma Sources Sci. Technol., 9, (2000), 441-454. [17] Nayan, N., Zahariman, M., R., Ahmad, M. F. B., Ali, R. A. M.,
Sahdan, M. Z., Hashim ,U.: Development and application of in-house high voltage power supply for atmospheric pressure plasma treatment system, ICSE2012 Proc., Kuala Lumpur, Malaysia, 2012.
[18] Hong, J.: Atmospheric Pressure Plasma Chemical
Deposi-tion By Using Dielectric Barrier Discharge System, M.Sc.
the-sis, University of Illinois at Urbana-Champaign, 2013. [19] Lu, X. P.: Effects of Gas Temperature and Electron
Tempera-ture on Species Concentration of Air Plasmas, J. Appl. Phys., 102, (2007), 033302-1-033302-6.
[20] Moreau, M, Orange, N, Feuilloley, M. G.: Non-thermal plasma technologies: New tools for bio-decontamination, Biotechn,.
Adv., 26, (2008), 610-617.
[21] Buček, A., Homola, T., Aranyosiová, M., Velič, D., Plecenik, T., Havel, J., Pavel, S., Zahoranová, A.: Atmospheric Pres-sure Nonequilibrium Plasma Treatment of Glass Surface,
Chem. Listy, 102, (2008), 1459-S1462.
[22] Lazauskas A., Grigaliūnas, V.: Float Glass Surface Prepara-tion Methods for Improved Chromium Film Adhesive Bond-ing, Materials Science (Medžiagotyra), 18, (2012), 181-186 [23] Jenkins, F. A., White, H. E.: Fundamentals of Optics, 4th ed.,
McGraw-Hill, Inc. (1981).
[24] Zhong-Hong D., Rong-Jun Z., Jie S., Yi-Ming C., Yu-Xiang Z., Jia-Da W., Liang-Yao C.: J. Korean Physical. Soc., 55, (2009), 1227-1232.
[25] Wanger, C.D , Riggs, W. M., Davis, L. E., Moulder, J. F., et al.: Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer Corp., Physical Electronics Division, Eden Prairie, Min-nesota, USA, 1979.
[26] Ge, L., Xu, M.: Fabrication and characterization of TiO2
pho-tocatalytic thin fi lm prepared from peroxo titanic acid sol,
Sol-Gel Sci. and Technol., 43, (2007), 1-7.
[27] Briggs, D., Seah, M. P.: Practical Surface Analysis, John Wiley and Sons, NY, 1983.
[28] Fang, Z., Qiu, Y., Kuffel, E.: Formation of hydrophobic coat-ing on glass surface uscoat-ing atmospheric pressure non-thermal plasma in ambient air, J. Phys. D: Appl. Phys., 37, (2004), 2261-2266.
[29] Anghel, S. D., Simon, A., Papiu, M. A., Dinu, O. E.: A Very Low Temperature Atmospheric-Pressure Plasma Jet In A Sin-gle Electrode Confi guration, Rom. J. Phys., 56, Supplement, (2011), 90-94.
[30] Fujiwara, H.: Spectroscopic Ellipsometry, Wiley and Sons, Tokio 2003.
[31] Azzam, R. M. A., Bashara, N. M.: Ellipsometry and Polarized
Light, North Holland Press, Amsterdam 1977, Second
edi-tion, 1987.
Rys. 3. Porównanie współczynnika załamania światła próbki szkła przed i po obróbce w plazmie.
Fig. 3. Comparison between refractive indexes of the glass sample before and after the plasma treatment.
